Electronique Mag - Le journal de l'électronique.
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L’extension de l’offre TCA d’Actel conforte davantage Fusion PSC en tant que standard silicium pour la gestion de système sophistiqué
Cette coopération a pour but de réaliser une solution système complète qui favorisera l’adoption de la radio numérique par satellite en Europe et au Moyen-Orient
Lancement prochain d’une plateforme basée sur un Linux commercial pour accélérer la croissance du marché des MIDs
Le nouveau module d’importation de fichiers de PCB d’Allegro pour Altium Designer permet de concevoir plus facilement des composants « intelligents » de dernière génération
Leader Français des circuits imprimés nus de haute technologie, le groupe elvia PCB obtient la certification PRI NAD-CAP pour l’unité de Coutances.
STMicroelectronics, l’un des principaux fournisseurs mondiaux de semi-conducteurs pour l’industrie automobile* et le Pôle de compétitivité SYSTEM@TIC PARIS-REGION annoncent ce jour l’entrée de ST dans Num@tec automotive, devenant ainsi partenaire technique du consortium.
Le flot de conception de référence Low-Power 65 nanomètres basé sur le CPF, répond aux problèmes des conceptions complexes et accélère la performance des circuits basse consommation
HAMEG Instruments présente la dernière édition de son catalogue produits 2008 en 4 langues. Il donne une vue d’ensemble de tous les produits et accessoires disponibles y compris les données techniques. Un exemplaire du catalogue peut être commandé directement chez HAMEG Instruments ou téléchargé à (...)
(Nasdaq : MENT) vient de remettre les prix de la 20ème édition de sa compétition Technology Leadership Awards, dont l’objectif consiste à récompenser l’excellence en matière de conception de circuits imprimés (PCB) Cette compétition lancée en 1988 est la plus ancienne dans l’industrie de l’automatisation de la conception électronique (EDA).
Mentor Graphics (Nasdaq : MENT) annonce que STMicroelectronics a choisi la plate-forme DFM (design for manufacturing) Calibre® comprenant Calibre LFD™ (Litho-Friendly-Design) pour l’analyse de la variabilité provenant des procédés lithographiques de fabrication en 65 nanomètres (nm) et au-delà.
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