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L’objectif est de franchir une nouvelle limite de résolution, et de permettre aux systèmes de fabrication de circuits intégrés actuels d’atteindre les générations 22 nanomètres (nm) et inférieures. Cet accord fait partie intégrante de l’initiative de miniaturisation d’IBM visant à créer le premier processus de production de semiconducteurs en 22 nm. Cette initiative a d’ailleurs elle aussi été annoncée.

« Le cap des 22 nm représente un véritable défi pour l’industrie, car les approches traditionnelles de miniaturisation ne sont plus viables en raison des lois de la physique », explique Gary Patton, vice-président de la division microélectronique d’IBM. « Nous devons donc nous tourner vers des solutions de miniaturisation informatisées pour franchir ce nouveau cap et les suivants. Nous sommes ravis d’avoir signé ce partenariat unique en son genre, car il conférera à IBM une suprématie dans le domaine des technologies de traitements lithographiques, des algorithmes et de l’informatique de pointe grâce au système Calibre® nmPlatform, leader du marché. Au cours des semaines à venir, IBM aura d’autres communiqués à faire à propos de nos stratégies. Nous prévoyons en effet de concevoir un environnement de miniaturisation informatisée très complet pour notre projet de technologie de miniaturisation informatisée à 22 nm. »

« Ce partenariat est le prolongement logique de celui qui unit IBM et Mentor depuis que nous travaillons ensemble sur des solutions de correction des effets de proximité optique (OPC) par simulation pour la génération 130 nm. Il étend encore la collaboration dont nous avons parlé conjointement au mois de février dernier (http://www.mentor.com/company/news/calibrenmopccellbeibm) à propos du processeur Cell Broadband Engine™ », explique Joseph Sawicki, vice-président et directeur général de la division conception silicium de Mentor Graphics. « Nous avons dépassé le cadre de la relation classique client-fournisseur de solutions EDA, et nos efforts s’inscrivent désormais dans un véritable programme de recherche-développement qui aura des retombées extrêmement intéressantes pour nos clients. Non seulement nous serons capables de résoudre des motifs á 22 nm, mais nous serons aussi à même de présenter des solutions innovantes pour contenir l’investissement que représente l’informatique en termes de temps de cycle et de coûts, ce qui est extrêmement important pour la réussite globale de nos clients. »

Les travaux de développement conjoints se réaliseront sur les sites de San Jose de Mentor, sur le site d’East Fishkill pour IBM et sur le site de Yorktown pour IBM Research. IBM et Mentor Graphics développeront des méthodes et des logiciels uniques, reposant sur des techniques mathématiques et des architectures logicielles avancées, pour atteindre des résolutions lithographiques, permettant la production du 22 nm.

http://www.mentor.com

http://www.ibm.com/technology