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La société RIBER, leader mondial de l’épitaxie par jets moléculaires (MBE), annonce qu’elle recevra le « Rusnanoprize » de la société russe des nanotechnologies au cours d’une cérémonie qui aura lieu à Moscou le 6 octobre prochain. Ce prix prestigieux récompense RIBER pour l’implémentation de la technologie MBE à l’industrie des semiconducteurs.

Créé par la société russe des nanotechnologies, le prix international « Rusnanoprize » vise à promouvoir les innovations dans les domaines de la nanoélectronique, de la nanobiotechnologie des nanomatériaux, et des nanondiagnostiques. Il récompense chaque année des développements scientifiques et technologiques majeurs, et leur application à la production industrielle.

Le prix 2009 sera attribué au Russe Leonid Keldych et à l’Américain Alfred Y. Cho, chercheurs pionniers de la technologie d’épitaxie par jets moléculaires. Parallèlement à ces distinctions, Riber recevra un prix pour avoir introduit le premier équipement MBE au monde à la fin des années 70 et à l’avoir perfectionné et décliné de la recherche à la production pendant plus de trente ans.

Cette récompense confirme RIBER en tant qu’acteur majeur des nanotechnologies, capitalisant sur un important savoir-faire technologique et une forte notoriété auprès de la communauté scientifique et des fabricants de dispositifs à base de semi-conducteurs composés.

Méthode de croissance des nanostructures utilisée dans la recherche la plus avancée dans les domaines de l’électronique, la photonique, ou la détection de haute précision, la technologie de l’épitaxie par jets moléculaires est également largement utilisée dans la production d’applications électroniques à action ultrarapide comme les téléphones cellulaires et autres produits nomades, les réseaux de communication à fibres optiques, les radars, les satellites de télécommunication, les détecteurs infrarouge, l’instrumentations médicales, les machines de coupes, les lecteurs CD, etc.

Les systèmes MBE développés par RIBER offrent un certain nombre d’avantages à ses utilisateurs :

· une très grande qualité des matériaux cristallins et des uniformités de nano-couches remarquables permettant le développement d’innovations technologiques ;

· des gains de productivité importants dans la fabrication des substrats ;

· une réduction significative des coûts opérationnels, notamment grâce à la haute efficacité du processus et à des coûts de maintenance réduits.

La qualité des travaux primés récompense ainsi la politique ambitieuse de RiBER en matière de recherche applicative pour tester de nouveaux produits et des nouvelles techniques de jets moléculaires. Elle atteste de l’engagement constant de Riber auprès des principaux centres de recherche internationaux. Elle est enfin le fruit de longs partenariats techniques auprès des utilisateurs de la technologie MBE en Russie.

La cérémonie solennelle d’attribution des lauréats du prix « Rusnanoprize » aura lieu lors du Forum international sur les nanotechnologies à Moscou du 6 au 8 Octobre 2009.

http://www.riber.com